生成AI（ChatGPTなど）が急速に広がる中、その裏側では膨大なデータ処理を担う「データセンター」が、深刻な“電力不足”と“発熱”の問題に直面しています。AIが賢くなるほど、必要な計算量が増え、データセンターの電力消費は年々加速しています...

はじめに半導体は、長く性能向上を支えてきた“微細化”は物理的にも経済的にも限界が見え始めました。そこで注目されているのが、チップを横ではなく「縦」に積む3D積層技術、そしてその中核となる技術の一つが「ハイブリッド接合（Hybrid Bond...

2026年1月20日、日本の製造業を象徴する企業の一つであるソニーグループから、衝撃的なニュースが発表されました。長年、同社の顔であったテレビ事業（BRAVIA）を分離し、中国の家電大手TCLエレクトロニクスと合弁会社を設立するというもので...

最先端エッチング工程２nmプロセス以降、GAA（Gate-All-Around）構造や高アスペクト比の加工が必要な世代では、従来のような「ただ削る」手法から、「原子層レベルで制御し、形状を完璧に作り込む」手法へと進化しています。『次世代半導...

はじめにAIチップは年々大型化し、内部の配線も細かくなっています。その結果、これまで主流だった有機樹脂（ABF）基板では、熱で反りやすい微細配線が限界に近いといった問題があります。こうした課題に対して、後工程ではガラス基板への移行が進んでい...

はじめに近年、日本の半導体産業は大きな転換期を迎えています。特に、TSMCが熊本第2工場において最先端の「2nmプロセス」導入を検討しているというニュースは、業界に大きな衝撃です。これまで「量産（既存世代）のTSMC」と「先端開発（2nm）...

半導体の性能は、日々「より小さく・より高性能」へと進化しています。その進化を支えている中心技術の一つが、フォトリソグラフィとフォトレジストです。しかし、この分野は専門用語が多く、初心者にとっては「どこが難しいのかすら分からない」と感じること...

はじめに次世代半導体の議論では、EUV露光、GAAトランジスタ、HBM、3D積層といったキーワードが注目されがちです。しかし、実際の量産現場で技術者が直面しているのは、より地味でありながら、プロセス全体の成否を左右する“見えない律速”です。...

半導体の性能向上といえば、回路の微細化やアーキテクチャの革新が注目されがちです。しかし、2nm以降の世界では、もはやそれだけでは限界を突破できません。実は、最先端プロセスの成否を握っているのは、装置の中で静かに働く「材料」です。EUVレジス...

今後の半導体勢力図を公開情報を整理し、国別で勝手にランキングしてみました。社会情勢等々で勢力図は変化を続けますが、個人的な見解としてご理解していただき、ご興味がありましたら読んでください。はじめに昨今、SEMI（業界団体）の予測では、半導体...