半導体 半導体プロセスを決める「気体化技術」― ALD・CVD・DLIにおけるプリカーサー供給が次世代半導体(HBM・GAA)の成否を左右する理由 ―
はじめに次世代半導体の議論では、EUV露光、GAAトランジスタ、HBM、3D積層といったキーワードが注目されがちです。しかし、実際の量産現場で技術者が直面しているのは、より地味でありながら、プロセス全体の成否を左右する“見えない律速”です。...
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